[15a-P5-1~9] 6.4 Thin films and New materials

[15a-P5-1] Al₂O₃ films for anticorrosion coating on metal surfaces by room temperature atomic layer deposition

〇Kensaku Kanomata¹, Makoto Ishikawa¹, Masanori Miura¹, Bashir Ahmmad¹, Shigeru Kubota¹, Kazuhiro Hirahara¹, Fumihiko Hirose¹ (1.Yamagata Univ.)

Keywords:ALD, Plasma process, Anticorrosion coating

我々はこれまで酸化ガスに加湿アルゴンプラズマを用いた独自の室温原子堆積法によるシリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニアの形成について報告を行ってきた。本研究では上記の室温原子層堆積法を用いてSUS430の板材にアルミナをコートした。この板材を塩酸に浸漬し、腐食試験を行った結果、塩酸に30分浸漬を行っても金属表面が浸食されることなく保たれていることを確認した。