[15a-P5-1~9] 6.4 Thin films and New materials

[15a-P5-8] The relation of formation and vaporizing temperature of ZnO whisker using atmospheric chemical vapor deposition

〇Naoki Kakuda¹, Keiji Komatsu², Hidetoshi Saitoh² (1.NIT, Yonago Colege, 2.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:zinc oxide, thermal chemical vapor deposition, whisker

大気開放型CVD法により製膜した酸化亜鉛（ZnO）ウイスカーの製膜過程を電界放出型走査電子顕微鏡などで評価した。原料の亜鉛(II)アセチルアセトナートの気化温度に対して製膜速度は線形に増加した。また、気化温度が高い場合にはウイスカー形成初期に基板と薄膜との界面層が形成されたが、低い場合にはされなかった。