2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

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[15a-P6-1~13] 6.5 表面物理・真空

2017年3月15日(水) 09:30 〜 11:30 P6 (展示ホールB)

09:30 〜 11:30

[15a-P6-9] 基板の前処理がダイヤモンドの表面粗さに及ぼす影響の評価

玉野 梨加1、岡本 尚樹1、齊藤 丈靖1、梅沢 仁2、杢野 由明2 (1.阪府大、2.産総研)

キーワード:ダイヤモンド、表面粗さ

ダイヤモンドは並外れた物性を示し、次世代の電子デバイスへの応用が強く期待されている。高品質ダイヤモンド薄膜を作製するためには、基板の表面をより平坦にする必要がある。本研究では、プラズマCVD法を用い、イオンビームエッチングや水素プラズマ等の処理を施したダイヤモンドⅠb基板上にp型ダイヤモンドを成膜し、表面粗さについて評価を行った。