[15a-P8-1~31] 12.1 作製・構造制御

[15a-P8-6] Alq₃薄膜へのロータリーカソードAlスパッタダメージ評価

〇内田 敏治¹、菅原 洋紀¹、竹見 崇¹、青沼 大介¹ (1.キヤノントッキ株式会社)

キーワード：スパッタリング、ダメージ

Alq₃膜上へロータリーカソードによりAlをスパッタ成膜したサンプルを作製し、フォトルミネセンス(PL)強度でスパッタダメージを評価した。その結果ダメージのスパッタ電力依存性は小さく、Arガス圧力依存性は1.2Paから0.3Paまでは圧力減少に伴いダメージが減少した。また、PLスペクトルの色度座標をAl蒸着サンプルと比較することでスパッタでのAlq₃膜厚変化がないことも判明した。