[15p-211-1~18] 16.3 シリコン系太陽電池

[15p-211-10] N型結晶Si太陽電池セル用パッシベーション膜の開発(1)

〇屋敷 保聡¹、西村 邦彦¹、小林 裕美子¹、綿引 達郎¹、森岡 孝之¹、時岡 秀忠¹、山向 幹雄¹ (1.三菱電機 先端総研)

キーワード：太陽電池、結晶シリコン、PERT

高いパッシベーション性能と、我々の用いている電極焼成プロセスの高温に耐えることを目標としてN型セル用の裏面パッシベーション膜の開発を行った。膜構造、製膜条件を検討し800℃を超える熱処理後においてもImplied-Voc(Voc:開放電圧)700mVが得られることが分かった。発表においては実際の焼成プロセス耐性、セル特性についても議論する。