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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[15p-213-5~20] 3.5 レーザー装置・材料

3.5と3.14のコードシェアセッションあり

2017年3月15日(水) 14:30 〜 19:00 213 (213)

小澤祐市(東北大)、戸倉川正樹(電通大)、湯本正樹(理研)

16:30 〜 16:45

[15p-213-12] 中赤外(6-18μm)光渦パラメトリックレーザー

〇安藤花菜¹、尾川あずさ¹、宮本克彦¹、尾松孝茂^1,2 (1.千葉大院融合科学、2.千葉大分子キラリティー研)

キーワード：光渦