[15p-311-1~18] 6.4 Thin films and New materials

△ [15p-311-6] Fabrication of TiH₂ thin films using hydrogen-radical assisted pulsed-laser deposition

〇(B)Akito Nishi¹, Kohei Yoshimatsu¹, Akira Ohtomo^1,2 (1.Tokyo Tech., 2.MCES.)

Keywords:hydrogen-radical, PLD, titanium hydride

近年，水素のエネルギー利用に新たな可能性が見出されたことから，チタンを含む金属水素化物のさらなる応用が期待されている．チタン水素化物は，低い分解温度や水素脆化のため，単相のTiH₂薄膜合成には至っていない．そこで我々は，水素酸化力を上げるため反応活性の高い水素ラジカルを用いたパルスレーザ堆積法で，水素流量とRFパワーから水素ラジカルの供給量を制御して，単相のTiH₂薄膜を作製したので報告する．