[15p-318-1~11] CS.4 7. Code-sharing Session: Beam Technology and Nanofabrication

[15p-318-8] Developing of inspection system for Mo/Si multi-layer mirror using high harmonics generation source

〇Hironori Igarashi^1,2, Shuntaro Tani², Masakazu Kobayashi¹, Kouji Kakizaki¹, Yohei Kobayashi² (1.GIGAPHOTON inc., 2.ISSP, Univ. of Tokyo)

Keywords:high harmonics generation, 13.5nm, Mo/Si multi layer mirror

次世代の半導体露光用光源としてEUV光源の開発が進んでいる。量産化に向けた課題の一つとして集光ミラーの評価・検査に放射光施設を使用しているため、高コスト・利便性が低いなどがあげられる。そこで小型で利用しやすい光源として高次高調波発生を用いたEUVミラーの検査装置の研究開発を行い、実際に1インチMo/Si多層膜ミラーの反射率測定デモを行ったので報告する。