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[15p-318-8] 高次高調波光源を用いたMo/Si多層膜ミラーの反射率評価装置の開発
キーワード:高次高調波発生、13.5nm、Mo/Si多層膜ミラー
次世代の半導体露光用光源としてEUV光源の開発が進んでいる。量産化に向けた課題の一つとして集光ミラーの評価・検査に放射光施設を使用しているため、高コスト・利便性が低いなどがあげられる。そこで小型で利用しやすい光源として高次高調波発生を用いたEUVミラーの検査装置の研究開発を行い、実際に1インチMo/Si多層膜ミラーの反射率測定デモを行ったので報告する。