2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

[15p-418-1~12] 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:30 418 (418)

細川 陽一郎(奈良先端大)、坂倉 政明(京大)、鳥塚 健二(産総研)

13:30 〜 14:00

[15p-418-1] 光渦はレーザー加工を変えるか?

尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大分子キラリティー研)

キーワード:光渦、レーザーアブレーション、レーザー装置

われわれは、光渦をレーザー加工の光源として活用して、タンタル・金・銅などの金属、シリコンなどの半導体、さらにはアゾポリマーなどの有機材料の表面加工を行ってきた。レーザー加工の光源に光渦を使うと何が起こるのか? レーザー加熱された表面近傍の物質は融解して、光渦から角運動量を受取り公転運動する。その結果、物質表面には多様な微細構造ができる。例えば、ナノメートルからマイクロメートルスケールの螺旋構造、マイクロメートルスケールの単結晶性ニードル、マイクロ微小球など、これまでのレーザー加工では、難しかった微細構造が、室温帯域雰囲気中下でいとも簡単に創れる。「光渦はレーザー加工を変えるか?」本講演では、われわれがこれまで行ってきた研究事例を報告するとともに、今後の展開を概説する。