2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

[15p-418-1~12] 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:30 418 (418)

細川 陽一郎(奈良先端大)、坂倉 政明(京大)、鳥塚 健二(産総研)

16:30 〜 16:45

[15p-418-8] 高フルエンスレーザー駆動極端紫外(EUV)光による金属ナノ粒子担持高分子材料の表面改質

〇(PC)田中 のぞみ1、安田 清和2、和田 直1、出口 亮1、余語 覚文1、西村 博明1 (1.阪大レーザー研、2.阪大院工)

キーワード:極端紫外(EUV)光、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、表面改質

極端紫外(EUV)光は物質の極浅表面で吸収され、その吸収プロセスは非熱的な光電離や光化学過程を取る。回路をポリマー基材上にパターニングした生体材料プロセシングなどへの応用が大きく期待される。本研究では、金及び銀のナノ粒子をPDMS上に担持したサンプルにEUV光を照射することで発現する表面界面の特性を明らかにした。更に他の波長の光と比較を行い、発現した特性がEUV光特有であることを明らかにした。