[15p-512-1~9] Progress and outlook of nanoimprint technology

△ [15p-512-7] Nanopatterning on polymer surface by thermal nanoimprint using a mica mold

〇Taichiro Kinoshita¹, Kodai Shimada¹, Satoru Kaneko^1,2, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Inst. of Tech, 2.Kanagawa Ind. Tech. Cent.)

Keywords:thermal nanoimprint, atomic-scale, surface roughness

これまでに、高さ0.3 nmの原子ステップを持つサファイアを用いて、熱ナノインプリント法により非晶質表面へ原子スケール形状の転写を行ってきた。一方で、二次元的にサブnmの周期構造を持つモールドを用いた転写の報告は少なく、この実現により新規な薄膜堆積基板応用などに貢献することができる。本研究では、原子レベルの秩序構造を有するマイカモールドを用い保持時間が表面平坦性に与える影響や転写の機構について検討した。