2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

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[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:00 512 (511+512)

横尾 篤(NTT)、廣島 洋(産総研)

17:15 〜 17:30

[15p-512-7] マイカモールドを用いた熱ナノインプリント法によるポリマー表面上ナノパターン形成

木下 太一郎1、嶋田 航大1、金子 智1,2、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技セ)

キーワード:熱ナノインプリント、原子スケール、表面平坦性

これまでに、高さ0.3 nmの原子ステップを持つサファイアを用いて、熱ナノインプリント法により非晶質表面へ原子スケール形状の転写を行ってきた。一方で、二次元的にサブnmの周期構造を持つモールドを用いた転写の報告は少なく、この実現により新規な薄膜堆積基板応用などに貢献することができる。本研究では、原子レベルの秩序構造を有するマイカモールドを用い保持時間が表面平坦性に与える影響や転写の機構について検討した。