[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

△ [15p-512-9] Print and Imprint法によるマイクロ電極作製に向けた残膜厚均一化の検討

〇関 健斗¹、中村 貴宏¹、佐藤 慎弥¹、熊谷 真莉¹、永瀬 和郎²、中川 勝¹ (1.東北大多元研、2.(株)ミノグループ)

キーワード：光ナノインプリントリソグラフィ、スクリーン印刷、レーザー孔空け

光ナノインプリントにおける高粘度光硬化性液体の塗布にスクリーン印刷手法を採用したPrint and Imprint法を用いることで、モールド押付時のバブル欠陥の消失とUV-NIL成形体の残膜厚均一化を試みた。レーザー穴あけ加工により作製した孔版を用いて粘度11,000 mPa sの光硬化性液体を平均体積0.12 pLで吐出することに成功した。さらに、マイクロ電極の作製に用いるモールドの空隙体積充填のために、光硬化性液体を位置選択的に配置できることを示した。