2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[15p-F202-1~11] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

3.11と3.12のコードシェアセッションあり

2017年3月15日(水) 14:00 〜 17:00 F202 (F202)

井村 考平(早大)

16:30 〜 16:45

[15p-F202-10] FDTD法とレベルセット法に基づく光学材料のトポロジー最適化

安田 英紀1,2、納谷 昌之1、山田 崇恭2、西脇 眞二2 (1.富士フイルム先端研、2.京大院工)

キーワード:トポロジー最適化、メタマテリアル、プラズモニクス

新たな光学材料の設計手法として、FDTD法とレベルセット法に基づくトポロジー最適化手法を提案する。本研究では、Maxwell方程式を支配方程式とし、光学応答を目的関数とする構造最適化問題を定式化した。更に随伴変数法に基づく感度解析により設計感度を導出し、レベルセット法に基づく形状更新手法によりトポロジー最適化を行った。本手法を2次元TM-FDTD法に実装した数値計算例について報告する。