PDF ダウンロード スケジュール 31 いいね! 2 コメント (0) 14:45 〜 15:00 [15p-F204-5] 高濃度Al ドープ4H-SiC の伝導機構の評価と低抵抗率化の可能性 〇(M2)竹下 明伸1、今村 辰哉1、高野 晃大1、奥田 和也1、松浦 秀治1、紀 世陽2、江藤 数馬2、児島 一聡2、加藤 智久2、吉田 貞史2、奥村 元2 (1.大阪電通大、2.産総研) キーワード:伝導機構