[15p-P11-1~11] 7 Beam Technology and Nanofabrication（Poster）

[15p-P11-1] Fabrication of Spindt-type field emitters using triode high power pulsed magnetron sputtering

〇Tomoki Narita¹, Hyuga Taniguchi¹, Kei Oya¹, Takeo Nakano¹, Masayoshi Nagao², Katsuhisa Murakami², Hisashi Ohsaki² (1.Seikei Univ., 2.AIST)

Keywords:emitter, Spindt type, HPPMS HiPIMS

2層のフォトレジスト、あるいはMo/SiO₂を用いて微小ホールを持つキャビティ構造を形成したSi基板上に、外部電源によりプラズマ電位を制御できる構成とした3極型大電力パルススパッタ装置を用いてMoを成膜し、スピント型エミッタの作製を試みた。外部電源電圧や放電ガス圧力などを様々に変えて実験を行い、各成膜パラメータに対するエミッタ形状の依存性を調べた。