2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-P3-1~26] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年3月15日(水) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[15p-P3-6] ウェットプロセスによる酸化タンタル薄膜の作製と抵抗変化型メモリへの応用

東 正挙1、番 貴彦1、山本 伸一1 (1.龍谷大学)

キーワード:抵抗変化メモリ