2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-P3-1~26] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年3月15日(水) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[15p-P3-7] p-Cu2O/SiNx/n-SiC/n-Si構造の抵抗変化型不揮発性メモリダイオード

素村 晃浩1、塚本 貴広1、加藤 格2、雑賀 章浩2、須田 良幸1 (1.東京農工大院工、2.東京高専)

キーワード:抵抗変化型不揮発性メモリ