[16a-413-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[16a-413-3] Amorphous-SiO₂中の金属原子が示す化学傾向

〇宮島 岳史¹、白川 裕規²、洗平 昌晃^3,2、白石 賢二^3,2 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研)

キーワード：絶縁膜、二酸化ケイ素、第一原理計算