[16a-502-1~12] 21.1 Joint Session K

△ [16a-502-7] Improvement of TFT characteristics by fluorine additive on solution-processed oxide semiconductor

〇Masashi Miyakawa¹, Mitsuru Nakata¹, Hiroshi Tsuji¹, Yoshihide Fujisaki¹, Toshihiro Yamamoto¹ (1.NHK STRL)

Keywords:Oxide Semiconductor, TFT

本報告では、塗布型酸化物TFTへの微量フッ素添加および水素導入・酸化処理の効果を評価したので報告する。