[16a-B5-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-B5-1] テクスチャSi上に真空蒸着法で形成したBaSi₂薄膜の評価

〇(B)藤原 道信¹、高橋 一真¹、中川 慶彦¹、後藤 和泰¹、黒川 康良¹、宇佐美 徳隆¹ (1.名古屋大工)

キーワード：半導体、シリサイド、テクスチャ