2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » GFIS(電界電離ガスイオン源)ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用:現状と今後の展望

[16p-315-1~11] GFIS(電界電離ガスイオン源)ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用:現状と今後の展望

2017年3月16日(木) 13:15 〜 18:00 315 (315)

水田 博(北陸先端大)、小川 真一(産総研)

14:30 〜 14:45

[16p-315-4] A study on fabrication characteristics of gold films using focused helium ion beam

前田 悦男1、飯島 智彦2、右田 真司2、小川 真一2、米谷 玲皇1 (1.東大工、2.産総研)

キーワード:helium ion microscope, ion beam, nanoscale patterning

The nano-gap fabrication techniques with gold structures have been investigated to realize the high efficient sensing devices. In our work, the helium ion microscope (HIM, Carl Zeiss ORION PLUS at AIST SCR station) was carried out to realize nanoscale patterning. For the purpose of detailed study for fabrication characteristics of gold films using HIM, cross-section of etched trench were evaluated by Z-contrast TEM images.