2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[16p-P7-1~36] 13.9 光物性・発光デバイス

2017年3月16日(木) 13:30 〜 15:30 P7 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[16p-P7-2] Er:O共注入Si MOSFETのフォトルミネッセンスおよび光励起電流計測

アブデルガファ ターレック 愛満1、矢野 真麻1、千葉 悠貴1、Prati Enrico2、Celebrano Michele3、Ghirardini Lavinia3、Finazzi Marco3、Ferrari Giorgio3、品田 高宏4、谷井 孝至1 (1.早大理工、2.イタリアCNR、3.ミラノ工科大学、4.東北大CIES)

キーワード:不純物準位、MOSFET、光励起電流

Siに添加されたエルビウム(Er)は波長1.5 µm帯の光に相当する不純物準位をバンドギャップ中に形成する。Si MOSFETのチャネル中にErを注入し、チャネル中に注入Erの不純物準位が形成されれば、トランジスタは1.5 µm帯の受光デバイスとして機能する。今回、ErとOを共注入したSi MOSFETの電気伝導特性と光学的特性の基礎的検討を行った。