[16p-P8-1~23] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

△ [16p-P8-20] α-Ir₂O₃/α-Ga₂O₃積層構造の作製

〇韓 欣一¹、金子 健太郎^1,2、人羅 俊実²、藤田 静雄¹ (1.京大院工、2.株式会社FLOSFIA)

キーワード：酸化イリジウム、コランダム、酸化ガリウム