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[17a-413-5] 細い偏光ビーム照射による後方散乱に基づく平板中埋入体のイメージング
キーワード:偏光イメージング、後方散乱、モンテカルロ・シミュレーション
生体組織による光散乱に基づき、非侵襲で病変を診断する手法が注目されている。板状試料に細い偏光ビームを入射し、後方散乱の偏光状態の分布を計測することにより、板状試料のイメージングが可能である。吸光係数および散乱係数の大きい埋入体、ならびに複屈折埋入体を内部に有する不均一平板試料について、モンテカルロシミュレーションの結果を報告する。