[17a-419-1~12] 6.3 Oxide electronics

[17a-419-10] Fabrication of the epitaxial Sn_xFe_3-xO₄ films on MgO(100)

Masato Araki¹, Hiroki Kajita¹, Takashi Yanase¹, Toshihiro Shimada¹, 〇Taro Nagahama¹ (1.Hokkaido Univ.)

Keywords:Magnetic Oxide, Spintronics

MFe₂O₄で表されるスピネルフェライトは高いキュリー温度を持つ酸化物磁性体である。酸化物エレクトロニクス分野では、スピネルフェライトをFETのチャネル層として活用しようとする試みが報告されている。多くはMとして3d遷移金属が導入され半導体的な伝導性を獲得している。これらの報告ではFET動作には成功しており、移動度などの特性の大幅な改善が課題となっている。本研究では室温で金属的な伝導を示すFe₃O₄に第5周期金属であるSnを添加したSn_xFe_3−xO₄エピタキシャル薄膜を得ることに成功し、その伝導特性や磁気特性を評価した。