[17a-502-1~10] 21.1 Joint Session K

△ [17a-502-2] Effects of UV Irradiation and Annealing on Solution-processed IGZO Thin-films

〇Yuki Takamori¹, Yusuke Ochiai¹, Takaaki Morimoto¹, Nobuko Fukuda³, Yoshimichi Ohki^1,2 (1.SASE of Waseda Univ., 2.RIMST of Waseda Univ., 3.FLEC of AIST)

Keywords:IGZO, Solution Process, Ultraviolet Photon

溶液法により大気中250℃で焼成したIGZO薄膜に、室温の大気中で7.2eVの紫外光(UV)を照射するとV_G>0におけるI_D(オン電流)が著しく減少し、250℃の大気中で再び加熱するとUV照射前の値に回復する。その後、UV照射と再加熱をすると、オン電流は再び減少および回復する。一方、上記のオン電流の減少は7.2eVのUVを照射する場合でのみ起こり、5.6、4.0eVのUVでは発生しない。