2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[17a-P1-1~9] 3.2 材料・機器光学

2017年3月17日(金) 09:30 〜 11:30 P1 (展示ホールB)

09:30 〜 11:30

[17a-P1-2] 液晶ホログラムメモリへの放射線照射による光学特性の影響

荻原 昭文1、渡邊 実2、伊藤 芳純2 (1.神戸高専、2.静岡大)

キーワード:液晶、ホログラム、放射線

ホログラムメモリは、外乱等による影響を受けにくく記録された情報の保持特性が高い特徴を有するため、高信頼性が必要とされる人工衛星等への搭載応用が期待される。宇宙空間では高エネルギーな放射線の影響を受けるため、放射線への耐性が重要となる。今回液晶材料を用いて作製したホログラムメモリ素子に対して、コバルト60を用いてガンマ線を100Mrad照射し、照射後の回折特性や内部構造への影響に関する調査を行った。