2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[17p-P3-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2017年3月17日(金) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[17p-P3-13] 4インチc面サファイア基板上AlNの高温N2アニールによる高品質化

富田 優志1、三嶋 晃1、矢野 良樹1、田渕 俊也1、松本 功1、三宅 秀人2 (1.大陽日酸㈱、2.三重大)

キーワード:窒化アルミニウム、アニール

4インチc面サファイア基板上に成長したAlNの高温N2アニール処理を実施した。AlNのアニール前後の表面モフォロジー変化を光学顕微鏡像、結晶品質をX線ロッキングカーブ測定により比較した。アニールの結果、光学顕微鏡像の観察ではアニール前後でAlNの表面モフォロジーに変化は見られなかった。また、(0002)面及び(10-12)面のX線ロッキングカーブ半値幅は基板全面で小さくなった。