10:30 〜 10:45 [21a-145-6] [講演奨励賞受賞記念講演] ナノZrO2核生成層を用いた強誘電体HfxZr1-xO2薄膜の作製技術 〇女屋 崇1,2,3、生田目 俊秀2、澤本 直美1、大井 暁彦2、池田 直樹2、長田 貴弘2、小椋 厚志1 (1.明治大学、2.物質・材料研究機構、3.学振特別研究員DC)