11:00 〜 11:15
〇(M1)坂尾 佳祐1、堀田 昌宏2、須田 淳1,2,3、朴 冠錫4、山岡 優哉4、矢野 良樹4、松本 功4 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来研、4.大陽日酸)
坂尾 佳祐
発表者・著者、共著者
2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:30 331 (国際会議室)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:30 331 (国際会議室)
11:00 〜 11:15
〇(M1)坂尾 佳祐1、堀田 昌宏2、須田 淳1,2,3、朴 冠錫4、山岡 優哉4、矢野 良樹4、松本 功4 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来研、4.大陽日酸)