一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.8 光物性・発光デバイス
2018年9月19日(水) 13:30 〜 17:00 235 (3Ｆラウンジ２)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇張 栖岩1、本田 光裕1、市川 洋1、佐藤 利文2 (1.名工大院、2.工芸大院)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇福田 由美1、アルベサール 恵子1、三石 巌1 (1.東芝研開セ)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇舟橋 司朗1、広崎 尚登1、武田 隆史1、解 栄軍2 (1.物材機構、2.厦門大学)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇Mehdi ESTILI1、Rong-Jun Xie2、Kohsei Takahashi1、Lihong Liu1、Shiro Funahashi1、Tohru Suzuki1、Naoto Hirosaki1 (1.NIMS、2.Xiamen Univ.)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇Lihong Liu1、Chenning Zhang1、Kohsei Takahashi1、Toshiyuki Nishimura1、Hiroyo Segawa1、Naoto Hirosaki1、Rong-Jun Xie2 (1.NIMS、2.Xiamen Univ.)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇高橋 向星1、市野 善朗2、大澤 祥宏3、広崎 尚登1 (1.物材機構、2.産総研、3.大塚電子)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇赤沢 方省1、篠島 弘幸2 (1.NTT DIC、2.久留米高専)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇松本 知真1、小牧 修也1、平川 大樹1、前田 幸治1、横山 宏有1、境 健太郎2 (1.宮崎大工、2.宮崎大産地連セ)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(M1)大串 叡壮1、中村 俊博1 (1.法政大学)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇小泉 洋1,4、渡部 純也2、杉山 伸2、平林 英明3、本間 哲哉1 (1.芝工大、2.根本特殊化学、3.東芝マテリアル、4.東芝生産技術センター)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇小泉 洋1,4、渡部 純哉2、杉山 伸2、平林 英明3、本間 哲哉1 (1.芝工大、2.根本特殊化学、3.東芝マテリアル、4.東芝生産技術センター)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇谷口 智隆1、三上 昌義1、佐伯 昭紀2 (1.三菱ケミカル（株）、2.阪大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇渡部 僚馬1、磯 由樹1、磯部 徹彦1 (1.慶大理工)
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