一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PB (白鳥ホール)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇(D)Zheyuan Zhang1、Takuma Shirahata1、Sze Yun Set1、Shinji Yamashita1 (1.Tokyo Univ.)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇酒井 浩平1、渡辺 洋次郎1、正田 史生1、廣澤 賢一1、亀山 俊平1、柳澤 隆行1 (1.三菱電機㈱)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇コスロービアン ハイク1、谷口 誠治1、宮永 憲明1,2 (1.レーザー総研、2.大阪大学)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇河野 健太1、折井 庸亮1、渋谷 公彦1、清水 政二1、吉村 政志2、森 勇介2、西前 順一3、岡田 穣治1 (1.スペクトロニクス、2.阪大工、3.三菱電機)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(BC)Geovanna Elizabeth Vasquez、Cesar Costa
スケジュール
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