一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 [20p-143-1~12] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 2018年9月20日(木) 13:45 〜 17:00 143 (143) 舩木 修平(島根大)、土屋 雄司(名大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用 [19p-212B-1~15] 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用 2018年9月19日(水) 13:15 〜 17:15 212B (212-2) 末吉 哲郎(熊本大)、山崎 裕文(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.4 アナログ応用および関連技術 [20a-212B-1~7] 11.4 アナログ応用および関連技術 2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:00 212B (212-2) 円福 敬二(九大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.4 アナログ応用および関連技術 [20p-212B-1~14] 11.4 アナログ応用および関連技術 2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:15 212B (212-2) 三木 茂人(情通機構)、服部 香里(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用 [21a-212B-1~11] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用 2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:00 212B (212-2) 田中 雅光(名大)、山梨 裕希(横国大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.1 作製・構造制御 [19a-231C-1~10] 12.1 作製・構造制御 2018年9月19日(水) 09:00 〜 11:45 231C (3Fラウンジ1) 堀家 匠平(神戸大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.1 作製・構造制御 [19p-231C-1~19] 12.1 作製・構造制御 2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:15 231C (3Fラウンジ1) 葛原 大軌(岩手大)、廣芝 伸哉(早大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.2 評価・基礎物性 [20p-231B-1~14] 12.2 評価・基礎物性 2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:15 231B (231-2) 大戸 達彦(阪大)、大塚 洋一(阪大)、古川 一暁(明星大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.2 評価・基礎物性 [21a-231C-1~11] 12.2 評価・基礎物性 2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:00 231C (3Fラウンジ1) 山田 洋一(筑波大)、中山 泰生(東理大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.2 評価・基礎物性 [21p-231C-1~10] 12.2 評価・基礎物性 2018年9月21日(金) 13:15 〜 16:00 231C (3Fラウンジ1) 赤池 幸紀(東理大)、若山 裕(物材機構)