一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [20a-211A-1~10] 3.6 超高速・高強度レーザー 2018年9月20日(木) 09:15 〜 12:00 211A (211-1) 稲場 肇(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [20a-224A-1~10] 3.7 レーザープロセシング 2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:45 224A (224-1) 坂倉 政明(サウサンプトン大)、谷 峻太郎(東大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [20p-212A-1~16] 3.9 テラヘルツ全般 2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:30 212A (212-1) 鈴木 左文(東工大)、諸橋 功(情通機構)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 [20p-224A-1~17] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 2018年9月20日(木) 13:15 〜 18:00 224A (224-1) 金森 義明(東北大)、井村 考平(早大)
一般セッション(口頭講演) | 4 JSAP-OSA Joint Symposia 2018 | 4.5 Nanocarbon and 2D Materials [20p-221B-1~11] 4.5 Nanocarbon and 2D Materials 2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:15 221B (221-2) 松田 一成(京大)、宮内 雄平(京大)
一般セッション(口頭講演) | 4 JSAP-OSA Joint Symposia 2018 | 4.8 Quantum Optics and Nonlinear Optics [20a-211B-1~8] 4.8 Quantum Optics and Nonlinear Optics 2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:45 211B (211-2) 庄司 一郎(中央大)、平野 琢也(学習院大)
一般セッション(口頭講演) | 4 JSAP-OSA Joint Symposia 2018 | 4.8 Quantum Optics and Nonlinear Optics [20p-211B-1~7] 4.8 Quantum Optics and Nonlinear Optics 2018年9月20日(木) 13:15 〜 16:15 211B (211-2) 尾松 孝茂(千葉大)、栗村 直(物材機構)、桂川 眞幸(電通大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.2 カーボン系薄膜 [20p-222-1~23] 6.2 カーボン系薄膜 2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222) 青野 祐美(防衛大)、針谷 達(豊橋技科大)、寺地 徳之(物材機構)、加藤 有香子(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [20a-222-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222) 齋藤 真澄(東芝メモリ)、鶴岡 徹(物材機構)
一般セッション(口頭講演) | 8 プラズマエレクトロニクス | 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理 [20a-438-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理 2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 438 (3Fラウンジ) 布村 正太(産総研)