2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18a-136-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2018年9月18日(火) 09:00 〜 12:15 136 (3Fロビー)

佐藤 雄二(阪大)、宮川 鈴衣奈(名工大)

11:00 〜 11:15

[18a-136-8] Ce3+:CaF2蛍光体の作製と発光特性評価

日紫喜 雅人1、井上 裕介1、小野 晋吾1、黒澤 俊介2、吉川 彰2 (1.名古屋工業大学、2.東北大学)

キーワード:薄膜、蛍光体、希土類イオン

紫外光源として利用が期待できるCe3+:CaF2蛍光体を薄膜化し、Ce3+イオンとCa2+イオンのイオン半径の違いためにイオン置換に際に発生する格子歪から、薄膜の実際のCe3+イオンのドープ濃度を計算した。さらに高効率発光に向けてドープ濃度と発光特性の関係を調査した。