[18p-212A-1~14] 3.15 シリコンフォトニクス

[18p-212A-3] 転写プリント法により作製したシリコン基板上電流注入型量子ドットレーザ

〇張 奉鎔¹、太田 泰友¹、勝見 亮太²、權 晋寛¹、荒川 泰彦¹ (1.東大ナノ量子機構、2.東大生研)

キーワード：量子ドットレーザ、転写プリント

高機能・低コスト集積光回路の実現を目指し、シリコンフォトニクスの研究が盛んに進められている。なかでもシリコン上への光源集積は中心的課題であり、ウエハ融着法などによる化合物半導体のハイブリッド集積技術の確立が期待されている[1,2]。その中で、薄膜材料を高い位置制御性で集積可能な転写プリント法が注目を集めている[3,4]。同手法を用いることで、化合物半導体の高い材料利用効率を達成しつつ、シリコンCMOSプロセスと親和性の優れたハイブリッド集積が実現可能と期待される。本発表では、この転写プリント法を用いた量子ドットレーザのシリコン基板上への転写・集積と、その動作実証ついて報告する。