2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-223-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月18日(火) 13:15 〜 18:00 223 (223)

高橋 竜太(東大)

15:45 〜 16:00

[18p-223-10] (La1-xSrx)VO3/p-Si(100)の接合の作製と電気特性評価

根元 亮一1、新船 幸二1、吉田 晴彦1、佐藤 真一1、堀田 育志1 (1.兵庫県大)

キーワード:半導体、遷移金属酸化物、強相関