2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-223-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月18日(火) 13:15 〜 18:00 223 (223)

高橋 竜太(東大)

17:45 〜 18:00

[18p-223-17] La0.67Sr0.33MnO3(100)薄膜のキャリア―を制御する全固体イオニクスデバイス

〇(D)川村 欣也1,2、土屋 敬志2、樋口 透1、寺部 一弥2 (1.東理大理、2.物材機構)

キーワード:固体イオニクス、LSMO

次世代技術として期待される磁気抵抗メモリ(MRAM)をはじめとするスピントロニクス応用を目指し,スピン注入磁化反転を含む様々な磁気特性制御法が検討されている.本研究では,室温強磁性体であり様々な磁気特性が化学ドープや酸素不定比性による電子キャリア濃度に依存することが知られるLa0.67Sr0.33MnO3 (LSMO)に注目し,固体電解質薄膜とのイオン授受による磁化率や磁気異方性等の可逆的かつ不揮発的なその場制御を狙う.