13:30 〜 13:45
[18p-224B-2] レーザー照射による2層WSe2の最表層選択的酸化
キーワード:遷移金属ダイカルコゲナイド、ドーピング
従来、遷移金属ダイカルコゲナイドに対するキャリアドーピング効果について多くの研究がなされて来たが、それらの多くはFET構造に基づくゲート電圧印加に基づいている。一方、最近オゾンを用いたWSe2の最表層選択的酸化によるホールドープが報告されており、ドーピング手法としても拡がりを見せている。本講演では、レーザー照射によるWSe2の最表層選択的酸化の試みを紹介する。