2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[18p-224B-1~11] 17.3 層状物質

2018年9月18日(火) 13:15 〜 16:00 224B (224-2)

北浦 良(名大)

13:30 〜 13:45

[18p-224B-2] レーザー照射による2層WSe2の最表層選択的酸化

塩谷 広樹1、塚越 一仁2、上野 啓司3、大岩 顕4 (1.阪大ナノセンター、2.WPI-MANA 物材機構、3.埼玉大院理工、4.阪大産研)

キーワード:遷移金属ダイカルコゲナイド、ドーピング

従来、遷移金属ダイカルコゲナイドに対するキャリアドーピング効果について多くの研究がなされて来たが、それらの多くはFET構造に基づくゲート電圧印加に基づいている。一方、最近オゾンを用いたWSe2の最表層選択的酸化によるホールドープが報告されており、ドーピング手法としても拡がりを見せている。本講演では、レーザー照射によるWSe2の最表層選択的酸化の試みを紹介する。