The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

17 Nanocarbon Technology » 17.3 Layered materials

[18p-224B-1~11] 17.3 Layered materials

Tue. Sep 18, 2018 1:15 PM - 4:00 PM 224B (224-2)

Ryo Kitaura(Nagoya Univ.)

3:15 PM - 3:30 PM

[18p-224B-9] Fabrication of TaSe2 ultrathin films by molecular-beam epitaxy

〇(M1)Yuki Tanaka1, Hideki Matsuoka1, Masaki Nakano1, Yoshihiro Iwasa1,2 (1.Univ. of Tokyo, 2.RIKEN CEMS)

Keywords:superconductivity, transition metal dichalcogenide, molecular beam epitaxy

NbSe2超薄膜に代表されるイジング超伝導体は、反転対称性の破れと大きなスピン軌道相互作用に起因する特殊な超伝導状態を示すため、非常に重要な物質系である。本研究では、NbSe2とは大きく異なった電子構造を有するTaSe2に着目し、分子線エピタキシー(MBE)法を用いて良質なTaSe2超薄膜の作製を行った。