2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[18p-224B-1~11] 17.3 層状物質

2018年9月18日(火) 13:15 〜 16:00 224B (224-2)

北浦 良(名大)

15:15 〜 15:30

[18p-224B-9] 分子線エピタキシー法を用いたTaSe2超薄膜の作製

〇(M1)田中 勇貴1、松岡 秀樹1、中野 匡規1、岩佐 義宏1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)

キーワード:超伝導、遷移金属ダイカルコゲナイド、分子線エピタキシー法

NbSe2超薄膜に代表されるイジング超伝導体は、反転対称性の破れと大きなスピン軌道相互作用に起因する特殊な超伝導状態を示すため、非常に重要な物質系である。本研究では、NbSe2とは大きく異なった電子構造を有するTaSe2に着目し、分子線エピタキシー(MBE)法を用いて良質なTaSe2超薄膜の作製を行った。