2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18p-234B-1~19] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2018年9月18日(火) 13:15 〜 18:30 234B (234-2)

影山 健生(QDレーザ)、中尾 亮(NTT)、神谷 格(豊田工大)

17:30 〜 17:45

[18p-234B-16] (411)A面 GaAs基板上のGaAs/GaAsBi量子井戸のPL偏光特性

山本 巧1、樋口 憧生1、塚本 晟1、田中 佐武郎1、神原 誉1、下村 哲1 (1.愛媛大院理工)

キーワード:偏光特性、PL特性、GaAsBi/GaAs

(100) GaAsBi/GaAs 量子井戸と同時に成長した(411)A面上のGaAsBi/GaAs 量子井戸について偏光特性を調べ、(100)面上のGaAsBi/GaAs 量子井戸と比較した。この結果、 (411)A量子井戸は短波長側ピークの偏光度はP=0.25と(100)量子井戸の偏光度P=0.22とほぼ等しく、長波長側のピークの偏光度はP=0.33と大きな偏光をもつことが分かった。