The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[18p-PA2-1~20] 6.4 Thin films and New materials

Tue. Sep 18, 2018 1:30 PM - 3:30 PM PA (Event Hall)

1:30 PM - 3:30 PM

[18p-PA2-1] Atomic Structure of K impurities in SiO2

Takeshi Miyajima1, Masaaki Araidai2,1, Kenji Shiraishi2,1 (1.Nagoya Univ., 2.IMaSS, Nagoya Univ.)

Keywords:first-principles calculation, SiO2, Potassium

近年、絶縁体中の金属原子の拡散現象を機能的に利用するデバイスの研究が行われている。例えば、振動型MEMS発電デバイスの固体イオンエレクトレットの作成にはSiO2中に混入したカリウム原子が利用されている。しかしSiO2中に電荷を蓄える要因は未だ分かってない。そこで本研究では、密度汎関数理論に基づく第一原理計算を用いて、カリウム原子が混入した際のSiO2の構造と荷電状態を解析し、固体イオンエレクトレットの原理を明らかにする。