2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18p-PA2-1~20] 6.4 薄膜新材料

2018年9月18日(火) 13:30 〜 15:30 PA (イベントホール)

13:30 〜 15:30

[18p-PA2-16] SiOキャップ層を用いたGe/Na3AlF6から成る遠赤外線フィルターの作製

室 幸市1 (1.朝日分光)

キーワード:光学フィルター、遠赤外線、蒸着

光学フィルターは光波の干渉を用いており、対象波長が長くなるにつれ光学膜厚が厚くなり、蒸着等による作製時に応力等に起因する剥離の問題が出てくる。遠赤外線フィルターを構成するNa3AlF6超厚膜に対して、SiOキャップ層による剥離抑制の効果を見出した。Ge/Na3AlF6から構成される多層膜にSiOを挿入することで剥離抑制を確認した。代替フロンガス用フィルターを作製し、イメージング識別を達成した。