2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[19a-133-1~12] 6.1 強誘電体薄膜

2018年9月19日(水) 09:00 〜 12:15 133 (133+134)

安井 伸太郎(東工大)、中嶋 宇史(東理大)

11:00 〜 11:15

[19a-133-8] Bサイト置換BiFeO3薄膜の強誘電・強磁性ドメイン構造変化

勝俣 真綸1、清水 陽樹1、清水 啓佑2、重松 圭1、東 正樹1 (1.東工大フロ材研、2.東工大科創院)

キーワード:マルチフェロイック、BiFeO3、PFM, MFM

BiFe1-xCoxO3薄膜は室温強磁性強誘電体であり、電場印加磁化反転が期待される。先行研究では、BiFe0.9Co0.1O3/GdScO3(110)Oの4種類の面内分極のうち、2種類がストライプ構造を作っている局所的な領域において、電場印加磁化反転が確認できた。そこで本研究では、ミスカット基板の使用により分極が2種類のみの試料を作製した。強誘電ドメイン観察の結果、ミスカット方向に配列したストライプドメインが確認できた。また、強誘電・強磁性ドメイン相関観察も行なった。