The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[19a-141-1~6] 8.1 Plasma production and diagnostics

Wed. Sep 19, 2018 9:00 AM - 10:30 AM 141 (141+142)

Shusuke Nishiyama(Hokkaido Univ.)

9:45 AM - 10:00 AM

[19a-141-4] Spatial distribution measurement of the degree of ionization in a helium ECR plasma produced under a simple cusp field using line intensity ratio method

Akira Ueda1, Taiichi Shikama1, Tatsuya Teramoto1, Takanori Higashi1, Yohei Iida2, Masahiro Hasuo1 (1.Kyoto Univ., 2.Bunkoukeiki.)

Keywords:ECR plasma, collisional radiative model, Spectroscopic measurement

高い電子密度,電離度のプラズマを生成できる可能性があるカスプ磁場配位電子サイクロトロン共鳴(ECR)放電の電離度を,発光分光計測と衝突輻射モデル解析により明らかにすることを試みた.カスプ磁場の軸に垂直な断面における電離度の分布を評価し,ECR面の内側で上昇することを実験的に明らかにしており,新たに3次元分布計測を試みることで,軸方向に連続性がある結果が得られるかを確認し,本解析手法の妥当性を確認する.