[19a-225B-1~9] 【CS.5】 3.11 フォトニック構造・現象, 3.13 半導体光デバイス, 3.15 シリコンフォトニクスのコードシェアセッション

[19a-225B-9] 空孔埋め込み再成長法による変調フォトニック結晶レーザの作製

〇石崎 賢司¹、坂田 諒一¹、國師 渡^1,2、田中 良典¹、De Zoysa Menaka¹、初田 蘭子¹、吉田 昌宏¹、宮井 英次^1,2、北村 恭子^1,3、野田 進¹ (1.京大院工、2.ローム、3.京都工繊大)

キーワード：フォトニック結晶、面発光レーザー

フォトニック結晶レーザは、2次元フォトニック結晶のバンド端共振作用を活用した新たな面発光型の半導体レーザであり、近年、格子点位置を周期的に変調した変調フォトニック結晶の導入により、任意の2次元方向へのビーム出射とその走査の基本実証に成功している。光センシング等への応用に向けて高出力化が重要であるため、今回、MOPVE法による埋め込み再成長法を用いた変調フォトニック結晶レーザの作製について検討を行った。