2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19a-233-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年9月19日(水) 09:00 〜 12:00 233 (233)

米谷 玲皇(東大)

09:00 〜 09:30

[19a-233-1] [優秀論文賞受賞記念講演] Reexamination of Fermi level pinning for controlling Schottky barrier height at metal/Ge interface

〇西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大)

キーワード：優秀論文賞